真空等离子清洗机

平板式晶圆等离子去胶机

平板式真空等离子去除光刻胶设备是一种基于等离子体技术的干法工艺设备，专为半导体制造、微电子加工、MEMS、LED及科研实验中高效、精准地去除光刻胶而设计。其核心在于利用等离子体的物理和化学作用，在不损伤衬底的前提下实现光刻胶的彻底清除，是现代精密制造中不可或缺的关键设备之一。

腔体容积：60L

射频频率：13.56MHZ

材质：316不锈钢

功率：600W可调

气路控制：2路

极板：7层，水平可调节

型号	JL-RR60
适用晶圆片尺寸	8Inch 12inch
等离子源系统	等离子发生器		射频频率：13.56MHZ;功率600W可调
真空系统	真空腔体	材质	316不锈钢
		腔体内部尺寸	400mm(宽）X400mm（深）X400mm（高）
		极板	7层，水平式，活动可调节
		物料托盘层数	6层
		腔体容积	60L
	泵	真空泵	鲍斯
	皮拉尼式真空计		正华
	质量流量计		SEVENSTAR
	气路控制		标配2路（可定制），气体流量可调，适用Ar、N₂、CF₄、O₂、H₂
	工作真空度		5Pa-30Pa
电控系统	人机工控系统		自动+手动触控式全中文界面
	PLC+触摸屏		顾美一体机
	开关电源		台湾明伟
	变频控制系统		根据实际情况自动调节真空泵抽速，实时确保真空度稳定
	软件程序		自主专利设计等离子控制系统，三级权限设置自动、手动模式配方参数设定、存储、调用，报警历史查询，IO监控
	报警功能		真空度、辉光、功率、气压等实时监控报警（三色灯蜂鸣器报警+显示屏提示）
进气系统	气体控制系统		日本SMC电磁阀
	气压监测系统		日本SMC减压阀、压力报警表
	进气管路组件		Φ8mm软管+不锈钢套管路
泄压系统	破真空组件		挡板阀+节流阀+消音器
整机参数	外形尺寸（MM)		900(宽）900(深）1750(高）
	重量		500kg
	额定总功率		2KW