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JL-RA1500旋转等离子设备,主要用于针对粉体材料表面改性、活化、刻蚀等材料处理设备。改进粉体的分散性,使粉体表面包膜和接枝而产生分体间的排斥力。防止团聚体的产生。 改进粉体颗粒表面结合性能,改善其表面的物理化学特续特性。增强其与基质即有机高聚物或树脂等相容性,以提高材料的机械强度及综合性能。
腔体容积:4L(可定制)
射频频率:13.56MHZ
腔体材质:石英玻璃
功率:1500W可调
气路控制:2路
腔体旋转速度:0-10r/min,转速连续可调
sale@j-lai.net
自主专利设计等离子控制系统,三级权限设置自动、手动模式
配方参数设定、存储、调用,报警历史查询,IO监控
真空度、辉光、功率、气压等实时监控报警
(蜂鸣器报警+显示屏提示)
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